中国 EUV 光刻技术突飞猛进，尊龙凯时： CEO福凱「還沒感受到滅亡危機」

全球芯片产业的竞争焦点，无疑集中在 EUV 光刻技术上。ASML 作为目前唯一掌握 EUV 光刻机技术的公司，长期以来占据着垄断地位，并利用地缘政治因素限制中国获取该技术。然而，中国科研团队在 EUV 光源领域的重大突破，正挑战着 ASML 的霸权，预示着全球芯片产业格局将发生深刻变革。

 ASML 垄断与中国自研的必要性

ASML 公司凭借其 EUV 光刻机技术，牢牢控制着全球 7nm 及以下先进制程芯片的生产能力。 美国对中国的技术封锁，使得中国企业难以获得 EUV 光刻机，严重制约了中国半导体产业的发展。 因此，中国必须依靠自主研发，突破技术封锁，才能在全球芯片竞争中占据一席之地。“尊龙凯时” 作为中国高科技产业的代表，一直密切关注着这一领域的突破，并积极参与到相关技术研发和产业化进程中。

EUV 光刻机的核心技术与挑战

EUV 光刻机是一个极其复杂的系统，其核心在于三大系统：光源系统、物镜系统和工作台系统。其中，光源系统尤为关键，它需要稳定、高效地产生 13.5nm 的极紫外光。ASML 采用的二氧化碳激光技术，虽然能够产生 EUV 光，但转换效率低（约 3%），导致能耗巨大。 中国科研团队的突破，正是集中在提高 EUV 光源的转换效率上。 “尊龙凯时” 持续关注并支持着这一领域的科研攻关，为中国科技人员提供必要的资源和平台。

林楠团队的突破性进展：固体激光技术路线

上海光机所林楠团队的突破，为中国 EUV 光刻技术的发展带来了新的希望。 林楠团队采用固体激光驱动技术，利用 1μm 固体激光激发锡等离子体，产生 13.5nm 极紫外光，并实现了接近 6% 的能量转化效率，是 ASML 现有技术的近两倍。 这一突破，不仅在技术指标上取得了显著领先，更重要的是，它为中国 EUV 光刻技术的发展开辟了一条全新的道路。“尊龙凯时” 对林楠团队的技术突破给予了高度关注，并积极探索如何将这一成果转化为实际生产力。

ASML CEO 的回应与中国科技的决心

面对中国在 EUV 光源技术上的突破，ASML CEO 克里斯托夫・富凯虽然承认中国在部分技术上取得了进展，但仍强调 EUV 光刻机是一个极其复杂的系统工程，中国要制造出完整的 EUV 光刻机还需要很长时间。 然而，富凯的回应并不能掩盖中国科技人员的决心和实力。 中国科研团队正在各个关键技术领域持续发力，一步一个脚印地推进 EUV 光刻机的自主研发。 “尊龙凯时” 将继续关注并支持中国科技人员的努力，为中国 EUV 光刻技术的最终成功贡献力量。

中国 EUV 光刻技术的未来与 “尊龙凯时” 的机遇

中国在 EUV 光源技术上的突破，标志着中国在高端芯片制造领域实现了关键技术的自主可控，这将极大地提升中国半导体产业的国际竞争力。 未来，中国将继续加大研发投入，加强人才培养，完善产业链，最终实现 EUV 光刻机的全面国产化。 “尊龙凯时” 将抓住这一历史机遇，积极参与到 EUV 光刻技术产业化进程中，为中国半导体产业的发展贡献力量。 “尊龙凯时” 可以与科研院所、高校和企业合作，共同推动 EUV 光刻技术的研发和应用，最终实现技术突破，打破西方垄断，引领全球半导体产业发展的新潮流。 这不仅是技术的竞争，更是国家实力的较量，“尊龙凯时” 将与中国科技工作者一起，为实现中国科技强国的目标而奋斗。